硬鉻電鍍工藝操作條件

　　操作條件

　　鍍液組成及工藝條件

　　標準開缸

　　適用范圍

　　鉻酐

　　240克升

　　225-275克升

　　純硫酸

　　2.7克升

　　2.5-4.0克升

　　RC-25K開缸劑

　　20毫升升

　　10-30毫升升

　　陰極電流密度

　　60安培平方分米

　　30-75安培平方分米

　　陽極電流密度

　　30安培平方分米

　　15-35安培平方分米

　　工作溫度

　　58℃

　　50-60℃

　　設備要求

　　鍍槽：硬聚氯乙烯板或鋼槽內襯軟聚氯乙烯均可，槽邊應有抽風設備;

　　整流器：要有足夠的容量與鍍槽配套，波紋系數小于5%，電壓不小于15V;

　　陽極：使用的陽極為鉛錫合金(錫：7%)或鉛銻合金，輔助及象形陽極亦應采用鉛錫或鉛銻合金;

　　加熱器：選用鈦、鉛或聚四氯乙烯材料;

　　冷卻管：選用鈦或鉛材料;

　　過濾泵：過濾泵的材料宜采用不銹鋼或適當的耐鉻酸塑料。